后曝光氮气烘箱，PEB无尘烘箱所使用的高温（100-130°C）会使光敏化合物扩散，从而消除驻波波纹.百级洁净度无尘化，专用于半导体，集成电路。

聚酰亚胺PI无氧烘箱，氮气亚胺化烘箱应用于精密电子元件、PI、CPI/PBO/LCP/BCB胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求。

氮气烘箱，掩膜板烘箱在掩膜版的生产制造过程中，掩膜版基板在光阻涂布后会有一个烘烤的环节，又称为前烘。

水冷无氧化烘箱，高温无氧烘箱升温方式：程序线性升温 降温方式：风冷+水冷辅助降温 氧含量：氧含量≤20ppm

真空无氧烤箱，无氧化真空烘箱用于光刻胶BCB，聚酰亚胺PI/CPI固化，BPO固化，LCP纤维热处理，

前烘氮气烘箱，硬烘洁净烘箱优化光刻胶的光学吸收特性，提高光刻胶对衬底的黏附性

外延片烘箱，氮气洁净烘箱延片将所述外延片放入烘箱中,在120℃～140℃的温度下,将所述外延片烘烤10～30分钟