真空无氧烘箱，高温无氧真空烤箱用于PI胶、BCB胶固化，键合材料预处理，ITO膜退火，PR胶排胶固化等特殊工艺。适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、PCB板、半导体封装、医药、实验室等生产及科研部门。

全氟辛基三氯硅烷涂胶机，抗粘剂PFTS烘箱主要用于纳米压印光刻（NIL）应用，防粘涂层的制备，可用于光刻工艺中HMDS增粘剂涂胶；以及功率半导体,LED,MEMS,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。

有降温功能真空烘箱，300度可降温真空烤箱用于键合预处理，晶圆，芯片，电容，电池，封装，光刻胶固化，PI固化等

充氮真空烘箱，快速降温真空烤箱用于键合材料的真空预处理 、BCB固化、ITO膜退火，PI胶固化等工艺。广泛应用于半导体、电子产品、医疗卫生等行业。

真空固化烤箱，防氧化真空系统用于键合前键合材料的真空处理 、ITO膜退火，PR胶排胶固化等工艺。广泛应用于半导体、电子产品、医疗卫生等行业，适用于工厂、高等院校、科研等场所。

真空镀膜机，脱模剂烤箱应用于半导体、光电、电子行业，硅片、石英等纳米压印模板材料。

HMDS烘箱、HMDS预处理系统降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。