全氟辛基三氯硅烷涂胶机,抗粘剂PFTS烘箱主要用于纳米压印光刻(NIL)应用,防粘涂层的制备,可用于光刻工艺中HMDS增粘剂涂胶;以及功率半导体,LED,MEMS,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。
冷热冲击测试机,冷热循环气流仪在短的时间内(约10秒)检测样品因高低温冷热冲击()-65℃~220℃)所引起的化学变化和物理伤害,减少测试与验证时间,快速提高产品研发和生产效率。广泛应用于通信、半导体、芯片、传感器等领域。
快速热处理退火炉,半导体RTP快速退火 炉可用于硅及其他化合物材料离子注入后的退火,硅化物形成,欧姆接触制备以及快速氧化,快速氮化等方面。该设备具有很好的长时间工作稳定性以及快速升降温,慢速升降温功能
不锈钢无尘烤箱,双层无尘烘箱应用于目前关键的半导体电子行业(如硅片干燥,坚膜烘烤,装片机后道烘烤,塑封后烘烤,治具烘烤等),另外,双层无尘烘箱还在LED制造行业中用于烘烤玻璃基板、无机材料行业中用于材料高精度工序。
无氧烘箱,无氧化烘箱在半导体集成电路制造过程中,晶圆表面预处理、涂胶、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤(Post Exposure Bake,PEB)、对准、显影、显影后烘焙等因素都会对光刻工艺效果带来显著影响